產(chǎn)品時(shí)間:2023-04-25
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廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
生產(chǎn)地址:
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雙恒電位儀/電化學(xué)工作站 NH88-CS2350M
雙恒電位儀是基于常規(guī)單通道CS350M 型電化學(xué)工作站拓展的產(chǎn)品,可以實(shí)現(xiàn)2個(gè)通道同步測(cè)試,搭配旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極(RRDE)使用,各通道獨(dú)立,可以實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)、不同電分析方法的獨(dú)立使用,軟件友好,可以實(shí)現(xiàn)組合編程功能。具體應(yīng)用于:
1)電合成、電沉積(電鍍)、陽極氧化等反應(yīng)機(jī)理研究;2)電分析化學(xué)研究、電化學(xué)傳感器的性能研究;3)能源材料、功能材料以及光電材料的性能研究;4)金屬材料在不同介質(zhì)(水/混凝土/土壤等)中的腐蝕研究與耐蝕性評(píng)價(jià);5)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快速評(píng)價(jià)。
雙恒電位儀/電化學(xué)工作站 NH88-CS2350M
1、硬件參數(shù)指標(biāo)
2,3,4電極
雙恒電位儀,雙通道獨(dú)立使用
電位儀電位控制范圍:±10V
恒電流控制范圍:±1.0A
電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV
電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)
電位分辨率:10V(>100Hz), 3V(<10Hz)
電流靈敏度:<1pA
電位上升時(shí)間:<1S(<10mA),<10S(<2A)
參比電極輸入阻抗:1012||20pF
電流量程:2A~2nA, 共10檔
大輸出電流:1A,槽壓:±21V
CV 和LSV掃描速度:0.001mV~10000V/s
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s
電流掃描增量:1mA @1A/mS
電位掃描時(shí)電位增量:0.076mV @1V/mS
SWV頻率:0.001~100KHz
DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz, 20bit @1KHz
DA分辨率:16bit, 建立時(shí)間:1S
CV的小電位增量:0.020mV
低通濾波器:8段可編程
電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置
接口通訊模式:網(wǎng)口
2、電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)
信號(hào)發(fā)生器:
頻率響應(yīng):10uHz~1MHz
頻率度:0.005%
交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV
信號(hào)分辨率:0.1mV RMS
直流偏壓:-10~+10V
DDS輸出阻抗:50
波形:正弦波,三角波,方波
正弦波失真:<1%
掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降
信號(hào)分析器:
小積分時(shí)間:10mS 或循環(huán)的長(zhǎng)時(shí)間
大積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S
測(cè)量時(shí)間延遲:0~105秒
直流偏置補(bǔ)償:
電位自動(dòng)補(bǔ)償范圍:-10V~+10V
電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A
帶寬調(diào)整(Bandwidth) :
自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置,共8級(jí)可調(diào)
3、測(cè)量與控制軟件主要功能
兩個(gè)通道獨(dú)立且具備以下測(cè)試功能:
穩(wěn)態(tài)極化:開路電位測(cè)量(OCP)、恒電位極化(I-t曲線)、恒電流極化、動(dòng)電位掃描(TAFEL曲線)、動(dòng)電流掃描(DGP)
暫態(tài)極化:任意恒電位階梯波、任意恒電流階梯波、恒電位階躍、恒電流階躍
計(jì)時(shí)分析:計(jì)時(shí)電位法(CP)、計(jì)時(shí)電流法(CA)、計(jì)時(shí)電量法(CC)
伏安分析:線性掃描伏安法(LSV)#、線性循環(huán)伏安法(CV)、階梯循環(huán)伏安法(SCV)#、方波伏安法(SWV)#、差分脈沖伏安法(DPV)#、常規(guī)脈沖伏安法(NPV)#、常規(guī)差分脈沖伏安法(DNPV)#、差分脈沖電流檢測(cè)法(DPA)、雙差分脈沖電流檢測(cè)法(DDPA)、三脈沖電流檢測(cè)法(TPA)、積分脈沖電流檢測(cè)法(IPAD)、交流伏安法(ACV)#、二次諧波交流伏安(SHACV)、傅里葉變換交流伏安【標(biāo)#號(hào)的方法包括相應(yīng)的溶出伏安分析方法】
交流阻抗:電化學(xué)阻抗~電位控制模式、電化學(xué)阻抗(EIS)~時(shí)間掃描、電化學(xué)阻抗(EIS)~電位掃描(Mott-Schottky曲線)、電化學(xué)阻抗~電流控制模式
腐蝕測(cè)量:動(dòng)電位再活化法(EPR)、電化學(xué)噪聲(EN)、電偶腐蝕測(cè)量(ZRA)、氫擴(kuò)散測(cè)試
電池測(cè)試:電池充放電測(cè)試、恒電流充放電、恒電位間歇滴定(PITT)、恒電流間歇滴定(GITT)
其他:圓盤電極測(cè)試以及轉(zhuǎn)速控制、溶液電阻測(cè)量(IR降)、溶液電阻正反饋補(bǔ)償(IR補(bǔ)償)
4、儀器配置
1)儀器主機(jī)1臺(tái);
2)測(cè)試與分析軟件1套
3)電源線1條
4)網(wǎng)口通訊線1條
5)電極電纜線2條
6)模擬電解池2個(gè)(儀器自檢器件)