產(chǎn)品時(shí)間:2024-11-19
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廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
生產(chǎn)地址:
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自動(dòng)研磨拋光機(jī) 型號(hào):KM1-UNIPOL-1202
KM1-UNIPOL-1202自/動(dòng)研磨拋光機(jī)適用于材料的研磨與拋光,本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤?80mm的平面。KM1-UNIPOL-1202自/動(dòng)研磨拋光機(jī)若搭配合適的輔助設(shè)備可以得到研磨表面,還可以對(duì)一定的樣品(如地質(zhì)薄片)進(jìn)行研磨與拋光。
KM1-UNIPOL-1202自|動(dòng)研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣。本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或?qū)蔷€長(zhǎng)≤105mm的矩形平面。在研磨過(guò)程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng),同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng),載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤公轉(zhuǎn),使樣品做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng),使研磨后的樣品表面均勻。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的圓柱狀金屬塊,使研磨后的樣品表面也具有高的平面度,并且不會(huì)使樣品邊緣倒角,對(duì)邊緣要求高的樣品適合。KM1-UNIPOL-1202自|動(dòng)研磨拋光機(jī)若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC-80A磨拋控制儀),可批量平面磨拋產(chǎn)品。搭配GPC-80A使用尤其適用于地質(zhì)薄片樣品的研磨與拋光。KM1-UNIPOL-1202研磨拋光機(jī)可以用研磨盤加磨料的方式研磨樣品,也可以選用拋光盤貼砂紙的方式研磨樣品,砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。
·平拋光盤(平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm)。
·精旋轉(zhuǎn)軸(托盤端跳小于0.01mm)。
·設(shè)有兩個(gè)加工工位。
·主軸旋轉(zhuǎn)采用無(wú)級(jí)調(diào)速控制方式,并設(shè)有數(shù)顯表實(shí)時(shí)顯示轉(zhuǎn)數(shù)。
·配有定時(shí)器,可控制工作時(shí)間(0-300h之間)。
·可選配自|動(dòng)滴料器或循|環(huán)泵。
自動(dòng)研磨拋光機(jī) 型號(hào):KM1-UNIPOL-1202
產(chǎn)品名稱 KM1-UNIPOL-1202自|動(dòng)研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào) KM1-UNIPOL-1202
安裝條件 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來(lái)水及下排水
2、電:AC220V 50Hz,須有接地
3、氣:無(wú)
4、工作臺(tái):尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:不需要
主要參數(shù) 1、電源:110V/220V
2、功率:275W
3、主軸轉(zhuǎn)速:低起動(dòng)轉(zhuǎn)速~高轉(zhuǎn)速10-125rpm
4、工位:2個(gè)
5、支撐臂擺動(dòng)次數(shù):0-9次/分
6、托盤端跳:0.008/250mm
7、磨拋盤:?300mm
8、載物盤:?105mm
9、產(chǎn)品規(guī)格:
·尺寸:長(zhǎng)550mm×寬700mm×高400mm
·重量:80kg
序號(hào) 名稱 數(shù)量 圖片鏈接
1 鑄鐵研磨盤 1個(gè)
2 鑄鋁拋光盤 1個(gè)
3 載物盤 2個(gè)
4 修盤環(huán) 2個(gè)
5 拋光墊(磨砂革、合成革、聚氨酯) 各1片
6 剛玉研磨微粉 0.5kg
7 石蠟棒 4根